影响因子 > SCI > 晶体学
期刊简称:J APPL CRYSTALLOGR
期刊全称:JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY
ISSN:0021-8898
Pindex:0.895 (较难发表)
影响因子:3.95 影响因子官网数据
学科分类:SCI-晶体学(CRYSTALLOGRAPHY)
出版地址:WILEY-BLACKWELL, 111 RIVER ST, HOBOKEN, USA, NJ, 07030-5774
Papertrans:派博传思官网数据
出版商:WILEY-BLACKWELL
出版语言:Multi-Language (多语言交替出版,或多语言同时出版,或多语言共同出版) ;
索引数据库:Current Contents-Physical, Chemical & Earth Sciences;
SCI (Science Citation Index) ;
SCIE (Science Citation Index Expanded) ;
ISI Chemistry Reaction Center;
Current Chemical Reactions Database;
Reaction Citation Index
Pindex期刊JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY派博系数(Pindex)
Pindex
学科排名
期刊JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY历年Pindex在学科晶体学中的排名图
历年派博系数(Pindex)及其专业排名
2014年: Pindex: 0.895; 学科排名:2/总数28
2013年: Pindex: 0.858; 学科排名:2/总数28
2012年: Pindex: 0.903; 学科排名:3/总数28
2011年: Pindex: 0.769; 学科排名:6/总数28
2010年: Pindex: 0.837; 学科排名:4/总数28
2009年: Pindex: 0.903; 学科排名:1/总数28
2008年: Pindex: 0.936; 学科排名:1/总数28
2007年: Pindex: 0.895; 学科排名:1/总数28
2006年: Pindex: 0.966; 学科排名:1/总数28
2005年: Pindex: 0.933; 学科排名:2/总数28
2004年: Pindex: 0.822; 学科排名:2/总数28
2003年: Pindex: 0.837; 学科排名:2/总数28
2002年: Pindex: 0.957; 学科排名:1/总数28
2001年: Pindex: 0.904; 学科排名:2/总数28
历年影响因子及专业排名
2014年: 影响因子:3.95; 学科排名:3/总数:23
2013年: 影响因子:3.343; 学科排名:4/总数:23
2012年: 影响因子:5.152; 学科排名:3/总数:25
2011年: 影响因子:3.794; 学科排名:7/总数:25
2010年: 影响因子:3.018; 学科排名:5/总数:25
2009年: 影响因子:3.212; 学科排名:3/总数:25
2008年: 影响因子:3.629; 学科排名:2/总数:25
2007年: 影响因子:2.495; 学科排名:3/总数:23
2006年: 影响因子:5.248; 学科排名:1/总数:24
2005年: 影响因子:3.534; 学科排名:2/总数:24
2004年: 影响因子:2.324; 学科排名:5/总数:23
2003年: 影响因子:1.871; 学科排名:4/总数:20
2002年: 影响因子:2.583; 学科排名:1/总数:19
2001年: 影响因子:1.752; 学科排名:2/总数:17
2000年: 影响因子:1.948; 学科排名:2/总数:18

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