| 期刊简称: | PLASMA CHEM PLASMA P |
| 期刊全称: | PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING |
| 影响因子2022: | 3.678 (2023年7月5日更新) |
| Pindex: | 0.57 (适中) (2023年7月5日更新) |
| 发行地址: | ONE NEW YORK PLAZA, SUITE 4600 , NEW YORK, United States, NY, 10004 |
| 索引数据库: | SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators
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| 派博系数 | SCIE期刊PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING历年pindex 派博传思
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派博系数
专业排名 | PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING Pindex专业排名@SCIE应用物理 派博传思
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