影响因子 > SCI > 应用物理学
期刊简称:IEEE T SEMICONDUCT M
期刊全称:IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
ISSN:0894-6507
Pindex:0.481 (难度适中)
影响因子:0.977 影响因子官网数据
学科分类:SCI-电机及电子(ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC)
SCI-制造工程(ENGINEERING, MANUFACTURING)
SCI-应用物理学(PHYSICS, APPLIED)
SCI-凝聚态物理(PHYSICS, CONDENSED MATTER)
出版地址:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
Papertrans:派博传思官网数据
出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
出版语言:English (英语) ;
索引数据库:ARTS & HUMANITIES CITATION INDEX;
Current Contents-Engineering, Computing & Technology ;
Current Contents Collections-Electronics & Telecommunications Collection;
SCI (Science Citation Index) ;
SCIE (Science Citation Index Expanded)
Pindex期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING派博系数(Pindex)
Pindex
学科排名		期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING历年Pindex在学科应用物理学中的排名图
历年派博系数(Pindex)及其专业排名
2014年: Pindex: 0.481; 学科排名：88/总数156
2013年: Pindex: 0.474; 学科排名：91/总数156
2012年: Pindex: 0.43; 学科排名：97/总数156
2011年: Pindex: 0.453; 学科排名：92/总数156
2010年: Pindex: 0.578; 学科排名：66/总数156
2009年: Pindex: 0.532; 学科排名：78/总数156
2008年: Pindex: 0.564; 学科排名：67/总数156
2007年: Pindex: 0.601; 学科排名：59/总数156
2006年: Pindex: 0.635; 学科排名：56/总数156
2005年: Pindex: 0.585; 学科排名：61/总数156
2004年: Pindex: 0.647; 学科排名：51/总数156
2003年: Pindex: 0.772; 学科排名：23/总数156
2002年: Pindex: 0.638; 学科排名：52/总数156
2001年: Pindex: 0.786; 学科排名：20/总数156
历年影响因子及专业排名
2014年: 影响因子:0.977; 学科排名:96/总数:136
2013年: 影响因子:0.862; 学科排名:91/总数:127
2012年: 影响因子:0.722; 学科排名:94/总数:125
2011年: 影响因子:0.748; 学科排名:93/总数:118
2010年: 影响因子:1.007; 学科排名:66/总数:108
2009年: 影响因子:0.957; 学科排名:69/总数:95
2008年: 影响因子:0.765; 学科排名:71/总数:94
2007年: 影响因子:0.785; 学科排名:60/总数:84
2006年: 影响因子:0.774; 学科排名:55/总数:83
2005年: 影响因子:0.62; 学科排名:60/总数:79
2004年: 影响因子:0.785; 学科排名:44/总数:76
2003年: 影响因子:1.031; 学科排名:33/总数:71
2002年: 影响因子:0.676; 学科排名:46/总数:71
2001年: 影响因子:0.912; 学科排名:31/总数:70
2000年: 影响因子:0.864; 学科排名:32/总数:63

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